而光刻機另一大核心部件之一的工件臺,在高速運動下需達到 2nm(相當于頭發(fā)絲直徑的三萬分之一)的運動精度,它的定位精度直接影響了光刻出來的硅片的質量. 這也奠定了光刻機超精密工件臺技術在超精密機械制造與控制領域的最尖端地位,被稱為超精密技術皇冠上的明珠.
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在 2000 年前,光刻設備只有一個工件臺,晶圓片的對準與蝕刻流程都在上面完成.直到 2001 年,ASML 推出了 Twinscan 雙工件臺系統(tǒng),使得光刻機能在一個工件臺進行曝光晶圓片,同時在另外一個工作臺進行預對準工作,并在第一時間得到結果反饋,生產效率提高大約 35%,精度提高 10% 以上.